走査型露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994236766
Publication number (International publication number)：1996102437
Application date： Sep. 30, 1994
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】マスクと感光基板とを同期してそれぞれ所定の方向に走査することによりマスク上のパターンを逐次感光基板上に露光する走査型露光装置において、広いショット領域の全面で感光基板の表面と投影光学系の結像面とのずれを少なくする。【構成】ウエハホルダ23上に走査方向に平行に凸状の接触部24a〜24cを形成し、これら接触部上にウエハ5の裏面を吸着するための吸着溝25a〜25cを形成する。接触部24a〜24cの間にZ方向に上下移動自在に設けた駆動部材31a〜31dによりウエハ5の裏面を押して、ウエハ5の非走査方向の曲がりを補正する。

Claim (excerpt)：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクを第1の走査方向に走査するのと同期して、移動ステージを介して感光基板を前記第1の走査方向に対応する第2の走査方向に走査することにより、前記感光基板上に前記マスクのパターンを逐次露光する走査型露光装置において、前記移動ステージの前記感光基板との接触部を、前記第2の走査方向に平行な方向に延びた複数の直線状の凸部としたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 515 G , H01L 21/30 526 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭56-130738
特開昭63-028035
特開昭62-102523

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