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J-GLOBAL ID:200903058702165265
ネガ型感光性組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西川 繁明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991353340
Publication number (International publication number):1993165218
Application date: Dec. 16, 1991
Publication date: Jul. 02, 1993
Summary:
【要約】【目的】 半導体集積回路、フォトマスク、フラットパネルディスプレイ等のパターン形成に用いられるアルカリ現像型のネガ型感光性組成物を提供すること。特にリフトオフ法によるパターン形成用ネガ型レジストとして好適な感光性組成物を提供すること。【構成】 (A)光線による露光、または露光と引き続く熱処理によって架橋する成分、(B)アルカリ可溶性樹脂、および(C)露光する光線を吸収する化合物を少なくとも一種含有し、かつ、アルカリ性水溶液を現像液とすることを特徴とするネガ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(A)光線による露光、または露光と引き続く熱処理によって架橋する成分、(B)アルカリ可溶性樹脂、および(C)露光する光線を吸収する化合物を少なくとも一種含有し、かつ、アルカリ性水溶液を現像液とすることを特徴とするネガ型感光性組成物。
IPC (6):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/027
, G03F 7/028
, G03F 7/26 513
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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