Pat
J-GLOBAL ID:200903058723621589
赤外線分光分析装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998356112
Publication number (International publication number):2000180356
Application date: Dec. 15, 1998
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高温試料からの発生ガスを精度良く測定可能な赤外線分光分析装置を提供する。【解決手段】 赤外線分光分析装置10は、試料33を加熱する加熱炉34と、干渉計13を経た赤外線照射路上に配置されており、加熱炉34に直結されて試料33から発生したガスが導かれるガスセル22とを備え、重量センサ34により加熱による試料33の質量変化を測定するとともに、検出器24と演算制御部18とにより試料33から発生したガスの赤外吸収スペクトルを同時に測定する。
Claim (excerpt):
試料を加熱し、前記試料から発生するガスに赤外線を照射して吸収スペクトルを分析する赤外線分光分析装置において、前記試料を加熱する加熱炉と、赤外線照射路上に配置されており、前記加熱炉に直結されて前記試料から発生したガスが導かれるガスセルと、を備えていることを特徴とする赤外線分光分析装置。
IPC (4):
G01N 21/35
, G01N 5/04
, G01N 21/01
, G01N 21/03
FI (4):
G01N 21/35 Z
, G01N 5/04 A
, G01N 21/01 C
, G01N 21/03 Z
F-Term (15):
2G057AA01
, 2G057AB02
, 2G057AC03
, 2G057DB05
, 2G057EA02
, 2G057EA06
, 2G057EA08
, 2G059AA01
, 2G059BB01
, 2G059DD16
, 2G059EE10
, 2G059HH01
, 2G059JJ14
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
Patent cited by the Patent: