Pat
J-GLOBAL ID：200903058747284028
パターン検査方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993222567
Publication number (International publication number)：1995077495
Application date： Sep. 07, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：
【要約】【目的】 シェーディング等の影響を減少させて欠陥検出の精度を向上しうるパターン検査方法を提供する。【構成】 同期性のあるパターンが形成された被検査物の画像をテレビカメラによって左右の画面に取り込む(ステップ?@)。この取り込んだ各多値画像5,6について全方向微分処理を行った(ステップ?A)後に所定のしきい値で2値化してパターンの輪郭部分を抽出する(ステップ?B)。これら2値画像7,8間の同座標画素同士の排他的論理和演算を行う(ステップ?C)。その結果得られた排他的論理画像9の所定基準以下の微小な差異に係る部分9bをもとの2値画像7,8から削除する(ステップ?D)。これにより得られた2値画像10,11同士を比較演算してパターンの不整を検出する(ステップ?E)。
Claim (excerpt)：
同期性のあるパターンが形成された2つの被検査物の画像をそれぞれ対応する画面に取り込み、この取り込んだ各画像について全方向微分処理を行った後に所定のしきい値で2値化してパターンの輪郭部分を抽出し、これら2値画像間の同座標画素同士の排他的論理和演算を行い、その結果得られた排他的論理和画像の所定基準以下の微小差異部分をもとの2値画像から削除し、これにより得られた2値画像同士を比較演算してパターンの不整を検出することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (4)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/66
