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J-GLOBAL ID：200903058749011819

レジスト除去方法およびレジスト剥離液

Inventor： 南朴木 孝至 ,  松崎 威毅
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社 ,  東邦化学工業株式会社
Agent (1)： 岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995190352
Publication number (International publication number)：1997043857
Application date： Jul. 26, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】精度の高いレジスト除去を行えるようにする。【解決手段】基板A上に塗布したレジストを剥離液1で溶解させたのち、基板Aを、レジストおよび剥離液1に対して溶解性を有する超臨界流体4で洗浄する。

Claim (excerpt)：

基板上に塗布したレジストを剥離液で溶解させたのち、前記基板を、レジストおよび剥離液に対して溶解性を有する超臨界流体で洗浄することを特徴とするレジスト除去方法。

IPC (4)：

G03F 7/42 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (4)：

G03F 7/42 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/30 572 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開平3-261128
  
• 特開昭60-192333
  
• 特開平2-131239
  
• 特開平4-305653
  
• 特開昭64-088548
  
• 特開昭62-049355