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J-GLOBAL ID：200903058789873120
ガス分離体及び支持体の接合構造、並びに、ガス分離装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995105744
Publication number (International publication number)：1996299768
Application date： Apr. 28, 1995
Publication date： Nov. 19, 1996
Summary：
【要約】【構成】 セラミック基体(12)の表面にガス分離膜(16)が被覆するガス分離体(10)と、支持体(22、24)と、ガス分離体及び支持体を接合するガラス接合部(26、28)を有する接合構造。ガラス接合部(26、28)は、ガス分離膜(16)で被覆されていないセラミック基体(10)の表面(13s、14s)を被覆する。ガラス接合部(26、28)及びガス分離膜(16)が互いに隣接してセラミック基体(12)の表面を被覆してもよい。ガラス接合部(26、28)が連続してガス分離膜(16)の表面の一部を被覆してもよい。ガラス接合部(26、28)のガラスが多孔質のセラミック基体(12)の表面の開気孔よりセラミック基体内部の気孔に連続していてもよい。【効果】 ガラス接合部が一般には金属であるガス分離膜ではなく、物性がより近似するセラミック基体を被覆するので、ガス分離体及び支持体を強固に接合することができる。
Claim (excerpt)：
ガス分離体と、当該ガス分離体を支持する支持体と、当該ガス分離体及び当該支持体を接合するガラス接合部を有する接合構造であって、当該ガス分離体は、セラミック基体と、当該セラミック基体の表面の一部に被覆するガス分離膜とを有し、当該セラミック基体はガス分子が侵入できるように多孔性であり、当該ガス分離膜は、特定のガスが固溶することにより選択的に透過することができ、当該ガラス接合部は、当該ガス分離膜で被覆されていない当該セラミック基体の表面の少なくとも一部を被覆することを特徴とする接合構造。
IPC (4)：
B01D 71/02 500
, B01D 53/22
, B01D 63/00 500
, B01D 69/10
B01D 71/02 500
, B01D 53/22
, B01D 63/00 500
, B01D 69/10
