放射線感応性ポジ型レジスト

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂口博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999038702
Publication number (International publication number)：1999316460
Application date： Feb. 17, 1999
Publication date： Nov. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】高性能でかつ放射線感応性のポジ型レジストとその配合方法を提供する。【解決手段】一態様においては、少なくとも2種類の混和性の、水性塩基に可溶なポリマー樹脂のブレンドを含み、一方のポリマー樹脂は高活性化エネルギーの保護機で部分的に保護され、もう一方は低活性化エネルギーの保護機で部分的に保護されたポリマー樹脂組成物が開示される。別の一態様においては、酸に不安定な保護基を少なくとも2種類含む二元ブロック・ポリマーが開示される。これらポリマー組成物または二元ブロック・ポリマーと、酸発生剤と、溶媒とを含む化学増幅レジスト系は、高い解像力とすぐれた環境安定性を示す。

Claim (excerpt)：

化学的に増幅されたレジスト系において、(a)少なくとも2種類の混和性の、水性塩基に可溶なポリマー樹脂のブレンドを含み、各水性塩基に可溶なポリマー樹脂が極性の官能基を有し、前記水性塩基に可溶なポリマー樹脂の1つが高活性化エネルギーの保護基で部分的に保護された極性官能基を有し、もう1つの水性塩基に可溶なポリマー樹脂が低活性化エネルギーの保護基で部分的に保護された極性官能基を有する、ポリマー樹脂組成物と、(b)酸発生剤と、(c)前記ポリマー樹脂組成物用の溶媒とを含むレジスト系。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 503 Z , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-060955 Applicant：日本電信電話株式会社
レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-115306 Applicant：信越化学工業株式会社
部分的に保護されたフェノール樹脂の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-330238 Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド

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