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J-GLOBAL ID:200903058803087842

排気浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 山田 恒光 ,  大塚 誠一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004327454
Publication number (International publication number):2006138241
Application date: Nov. 11, 2004
Publication date: Jun. 01, 2006
Summary:
【課題】セラミックスのペレットを用いずに良好にパティキュレートを捕集することができ且つその捕集したパティキュレートをプラズマの助勢により効果的に燃焼除去できるようにした耐久性の高い排気浄化装置を提供する。【解決手段】所要の隙間を隔てて対向配置された通気構造を成す平板電極15(電極)と電極棒18(電極)との間に、ガス透過性のセラミックから成るハニカムフィルタ16を、各流路16aが平板電極15と電極棒18との対向方向に延び且つ該各流路16aの入口及び出口の何れか一方が栓体16bにより交互に目封じされた状態として介装し、平板電極15と電極棒18との間に放電に必要な電圧を印加し得るように構成する。【選択図】図4
Claim (excerpt):
所要の隙間を隔てて対向配置された通気構造を成す電極間に、ガス透過性のセラミックから成るハニカムフィルタを各流路が両電極の対向方向に延び且つ該各流路の入口及び出口の何れか一方が交互に目封じされた状態として介装し、両電極間に放電に必要な電圧を印加し得るように構成したことを特徴とする排気浄化装置。
IPC (2):
F01N 3/02 ,  B01D 39/20
FI (3):
F01N3/02 321E ,  F01N3/02 301C ,  B01D39/20 D
F-Term (13):
3G090AA02 ,  3G090BA01 ,  3G090CA00 ,  4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04 ,  4D019CB09 ,  4D058JA32 ,  4D058JB06 ,  4D058MA41 ,  4D058SA08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • ガスのプラズマ処理
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2000-529889   Applicant:エイイーエイテクノロジーパブリックリミテッドカンパニー
  • ガス処理反応器用支持媒体
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願2000-510524   Applicant:アクセンタスパブリックリミテッドカンパニー

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