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J-GLOBAL ID：200903058811404180

露光装置

Inventor：
中村 綾子

About 中村 綾子

, 
中川 正弘

About 中川 正弘


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 猪熊 克彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998158372
Publication number (International publication number)：1999340132
Application date： May. 22, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：
【要約】【課題】アライメントマークの位置を高精度に検出して、微細な線幅に対応できる露光装置を提供する。【解決手段】投影原版上に設けられたパターンを感光性基板W上に投影する投影光学系30を備えた露光装置であって、感光性基板W上に設けられた位置検出用パターンに対して所定波長のアライメント光を供給するための照明光学系3〜8と、アライメント光により照明された位置検出用パターンからのアライメント光を受光可能な位置に設けられた対物レンズ系2と、少なくとも1つの光束偏向手段18とを有する集光光学系10〜15と、集光光学系10〜15を介したアライメント光を光電変換するための光電変換手段40とを備え、対物レンズ系2の感光性基板W側の開口数をNAWとするとき、0.35≦NAW≦0.85を満足する。
Claim (excerpt)：
投影原版上に設けられたパターンを感光性基板上に投影する投影光学系を備えた露光装置において、前記感光性基板上に設けられた位置検出用パターンに対して所定波長のアライメント光を供給するための照明光学系と、前記アライメント光により照明された位置検出用パターンからのアライメント光を受光可能な位置に設けられた対物レンズ系と、少なくとも1つの光束偏向手段とを有する集光光学系と、該集光光学系を介したアライメント光を光電変換するための光電変換手段と、を備え、前記対物レンズ系の前記感光性基板側の開口数をNAWとするとき、0.35≦NAW≦0.85を満足することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00
FI (4)：
H01L 21/30 525 W ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 507 R ,  H01L 21/30 507 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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