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J-GLOBAL ID：200903058840791649
真空浸炭方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森 哲也 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992330688
Publication number (International publication number)：1994172960
Application date： Dec. 10, 1992
Publication date： Jun. 21, 1994
Summary：
【要約】【目的】真空浸炭炉内における煤の発生・付着を簡単な方法で極力減少させることが可能な真空浸炭方法を提供する。【構成】被浸炭材Wの浸炭期に、炭化水素系ガスと空気とを一定の範囲内の比率で混合した浸炭性ガスを、真空加熱炉11の加熱室2に導入する。
Claim (excerpt)：
減圧下の加熱雰囲気内に浸炭性ガスを導入して、被浸炭材に浸炭処理を行う真空浸炭方法において、前記被浸炭材の浸炭期に、炭化水素系ガスと空気とを一定の範囲内の比率で混合した浸炭性ガスを導入することを特徴とする真空浸炭方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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