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J-GLOBAL ID:200903058844250766

パルスコントロール印字方式及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小川 勝男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993178799
Publication number (International publication number):1995032168
Application date: Jul. 20, 1993
Publication date: Feb. 03, 1995
Summary:
【要約】【目的】セラミック等の、素材が不安定かつ大きなレーザパワーを必要とする物品に対してレーザ印字を行う際に、印字対象物を破壊したりレーザ光線照射エネルギーの影響により印字対象物の性能を低下させない印字方式及び印字装置を得る。【構成】パソコンから送信されたデータとX、Y2軸のガルバノミラーにより所要の印字パタンを付与するとともに、そのレーザ光線を集光レンズで集光させて物品に照射し、その物品に上記ミラーで与えた所要の印字パタンを印字するスキャン式のレーザ印字装置において、ガルバノミラーの持つ最小分解能すなわち、ミラーが最も短く動ける距離を動かし、ミラーを停止させた状態でレーザ光線を照射する。【効果】見かけ上印字速度のコントロールをおこなうと同時に、印字文字のすべての点においても均一なレーザ照射パルス数を与える。
Claim (excerpt):
レーザ発振器から放射されたレーザ光線をパソコンから送信されたデータとX、Y2軸のガルバノミラーにより所要の印字パタンを付与するとともに、そのレーザ光線を集光レンズで集光させて物品に照射し、その物品に上記ガルバノミラーで与えた所要の印字パタンを印字する様にしたレーザ印字装置において、上記ガルバノミラーをそのガルバノミラーの持つ最小分解能移動量にて移動させ、移動後停止しレーザを一定時間照射することにより従来速度制御が困難な、ガルバノミラーを用いたスキャン式印字装置において見かけ上の印字速度制御をおこなう、きめの細かい印字品質を特徴としたレーザ印字方式。
IPC (5):
B23K 26/00 ,  B23K 26/08 ,  B41J 2/44 ,  B41M 5/24 ,  G02B 26/10 104

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