Pat

J-GLOBAL ID：200903058859233930

反射防止膜形成用コーティング組成物

Inventor： 宅島 秀典 ,  坂井 康弘
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 三浦 邦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993086485
Publication number (International publication number)：1994299091
Application date： Apr. 13, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 屈折率の低い透明基材に対しても充分に高い反射防止効果を発揮しうる反射防止膜形成用コーティング組成物を提供すること。【構成】 (A)テトラエチルシリケート等の、加水分解可能な基を少なくとも1個有し、芳香族基を含まない有機珪素化合物を有機溶剤中で酸で加水分解して得られるオルガノシロキサン溶液及び(B)テトラエチルシリケート等のテトラアルキルシリケートを有機溶剤中でアルカリで加水分解して得られるシリカ微粒子分散液からなり、透明材料に塗布・硬化後の薄膜の屈折率が1.2〜1.3となることを特徴とする反射防止膜形成用コーティング組成物である。

Claim (excerpt)：

(A)加水分解可能な基を少なくとも1個有し、芳香族基を含まない有機珪素化合物を有機溶剤中で酸で加水分解して得られるオルガノシロキサン溶液及び(B)テトラアルキルシリケートを有機溶剤中でアルカリで加水分解して得られるシリカ微粒子分散液からなり、透明材料に塗布・硬化後の薄膜の屈折率が1.2〜1.3となることを特徴とする反射防止膜形成用コーティング組成物。

IPC (4)：

C09D 5/00 PPQ ,  C09D183/02 PMQ ,  C09D183/04 PMT ,  G02B 1/10