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J-GLOBAL ID:200903058874722433
電気メッキ方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小森 久夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992238493
Publication number (International publication number):1994088283
Application date: Sep. 07, 1992
Publication date: Mar. 29, 1994
Summary:
【要約】【目的】メッキ膜厚の均一性,メッキ皮膜組成の均一性を向上させる。【構成】基板上のメッキを必要としない領域の一部をダミーパターン5として設定し、メッキを必要とする領域(ヘッド部3)、および前記ダミーパターン5を選択的に電気メッキする。
Claim (excerpt):
基板上のメッキを必要としない領域の一部をダミーパターンとして設定し、メッキを必要とする領域、および前記ダミーパターンを選択的にメッキすることを特徴とする電気メッキ方法。
IPC (2):
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