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J-GLOBAL ID：200903058890560540
イオン注入機用プラテン
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
滝田 清暉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996354118
Publication number (International publication number)：1998177964
Application date： Dec. 18, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：
【要約】【課題】イオン注入処理中にウェーハに発生する熱を十分に冷却してレジスト層を保護することができる上、イオン注入処理後にウェーハと熱伝導性シリコーンラバー表面が強固に密着することなく、安定して使用することのできるイオン注入機用プラテンを提供すること。【解決手段】プラテン用の金属製ベース上にシリコーンゴム層を設けたイオン注入用プラテン。前記シリコーンゴム層の熱伝導率は1.0×10-3cal/cm・sec・°C 以上である。また、シリコーンゴム層表面にはシボ模様が形成されている。
Claim (excerpt)：
プラテン用の金属製ベース上にシリコーンゴム層を設けたプラテンであって、該シリコーンゴム層の熱伝導率が1.0×10-3cal/cm・sec・°C 以上であると共に、該シリコーンゴム層表面にシボ模様が形成されてなることを特徴とするイオン注入機用プラテン。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/265 603 D
, C23C 14/50 D
