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J-GLOBAL ID：200903058901516441

光断層画像化装置

Inventor：
寺村 友一

About 寺村 友一


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006311287
Publication number (International publication number)：2008128709
Application date： Nov. 17, 2006
Publication date： Jun. 05, 2008
Summary：
【課題】光断層画像化装置において、高速に高分解能の断層画像を取得する。【解決手段】光源ユニット10a,10bからそれぞれ波長帯域が異なると共に一部が重畳する波長帯域の光束La、Lbが射出され、光分割手段3a、3bにおいて各光束La、Lbはそれぞれ測定光L1a、L1bと参照光L2a、L2bとに分割する。測定光L1a、L1bが測定対象Sに照射されたときの該測定対象からの反射光L3a、L3bと参照光L2a、L2bを合波手段4a、4bで合波して、合波されたときに生ずる複数の干渉光L4a、L4bを干渉光検出手段40a、40bにおいて検出して干渉信号ISa、ISbとが生成され、干渉信号ISa、ISbを用いて断層画像が取得される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
それぞれが互いに異なる波長帯域内において連続したスペクトルを形成する光束を射出する複数の光源ユニットと、 各光源ユニットから射出された前記各光束を光源ユニットごとにそれぞれ測定光と参照光とに分割する複数の光分割手段と、 該複数の光分割手段により分割された複数の前記測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と複数の前記参照光それぞれとを合波する複数の合波手段と、 該合波手段により前記反射光と前記参照光それぞれとが合波されたときに生ずる複数の干渉光を干渉信号としてそれぞれ検出する複数の干渉光検出手段と、 該干渉光検出手段により検出された複数の前記干渉信号を用いて前記測定対象の断層画像を生成する断層画像処理手段と を備えるものであることを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (3)：
G01N 21/17 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/39
FI (3)：
G01N21/17 625 ,  G01N21/01 D ,  G01N21/39
F-Term (11)：
2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059BB14 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE11 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (7)
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