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J-GLOBAL ID：200903058924915262

シリカ微粉の表面改質法

Inventor： 吉田 雅矢 ,  吉田 昭夫 ,  渡辺 祥二郎
Applicant, Patent owner： 電気化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000338825
Publication number (International publication number)：2002146232
Application date： Nov. 07, 2000
Publication date： May. 22, 2002
Summary：

【要約】【課題】平均粒径5μm以下のシリカ微粉のシランカップリング剤による処理を、工業的規模かつ均一に行うこと。【解決手段】平均粒径5μm以下のシリカ微粉にシランカップリング剤を気流中で噴霧する場のシリカ粉塵濃度が、0.1〜100g/m3 であることを特徴とするシリカ微粉の表面改質法。シランカップリング剤を気流中で噴霧する場が、シリカ微粉を製造してから捕集するまでの工程にあることが好ましい。

Claim (excerpt)：

平均粒径5μm以下のシリカ微粉にシランカップリング剤を気流中で噴霧する場のシリカ粉塵濃度が、0.1〜100g/m3 であることを特徴とするシリカ微粉の表面改質法。

IPC (6)：

C09C 1/28 ,  C01B 33/18 ,  C09C 3/12 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31 ,  C08K 9/06

FI (5)：

C09C 1/28 ,  C01B 33/18 E ,  C09C 3/12 ,  C08K 9/06 ,  H01L 23/30 R

F-Term (21)：

4G072AA41 ,  4G072BB07 ,  4G072HH14 ,  4G072HH30 ,  4G072QQ06 ,  4G072UU07 ,  4J002AA001 ,  4J002DJ016 ,  4J002FA086 ,  4J002FB136 ,  4J002FB146 ,  4J002FD016 ,  4J002GJ02 ,  4J002GQ01 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037DD05 ,  4J037EE44 ,  4M109AA01 ,  4M109EB13 ,  4M109EB17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• シリカフィラーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-259009   Applicant：東芝セラミックス株式会社
• 特開平4-092810
  

Cited by examiner (3)

• シリカフィラーの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-259009   Applicant：東芝セラミックス株式会社
• 特開平4-092810
  
• 特開平4-092810