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J-GLOBAL ID：200903058926656370

両面スクラブ洗浄装置

Inventor： 片岡 靖雄
Applicant, Patent owner： 住友精密工業株式会社
Agent (1)： 生形 元重 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992289261
Publication number (International publication number)：1994120192
Application date： Oct. 01, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 パターン形成前後の半導体ウエハ1を両面同時洗浄する。洗浄効果をたかめる。【構成】 半導体ウエハ1の両面に高圧ジェットノズル2a,2bからオゾン水またはH2 O2 水を吹き付けながら、その両面を回転ブラシ2a,3bにより拭払する。ただし、半導体ウエハ1の表面にパターンが形成されている場合は、その表面から回転ブラシ2aを離し、オゾン水またはH2 O2 水によるジェット洗浄のみで表面を洗浄する。

Claim (excerpt)：

洗浄すべき半導体ウエハの表面および裏面をオゾン水またはH2 O2 水によりジエット洗浄する一対の高圧ジェットノズルを設けると共に、その表面および裏面を拭払する一対の回転ブラシを設け、一対の回転ブラシのうちの少なくとも表面用の回転ブラシをウエハ表面から離反可能としたことを特徴とする両面スクラブ洗浄装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 1/04 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/30 501