Pat

J-GLOBAL ID：200903058929968852

高性能摺動面の製造方法

Inventor： 志 村 洋 文 ,  佐々木 信 也 ,  山 下 信 行 ,  越 塚 充 欣 ,  高 須 一 郎 ,  黒 沢 一 吉 ,  神 田 一 隆 ,  八 城 勇 一
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  帝国ピストンリング株式会社 ,  日本精工株式会社 ,  山陽特殊製鋼株式会社 ,  日本パーカライジング株式会社 ,  株式会社不二越 ,  日立精機株式会社
Agent (2)： 林 宏 (外1名) ,  林 宏 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992103470
Publication number (International publication number)：1994256786
Application date： Mar. 30, 1992
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 トリバロイまたはトライステルを利用した高性能摺動面の形成において、溶射法の改善により、密着性が大きくて緻密な溶射被膜を得る方法を提供する。【構成】 母材上に、トリバロイまたはトライステルの粉末をレーザ溶射または減圧プラズマ溶射にレーザ照射を併用したレーザ・プラズマハイブリッド溶射により被着し、高性能摺動面を製造する。

Claim (excerpt)：

母材上に、モリブデン、クロムを主成分とするコバルト基若しくはニッケル基摺動面材料、または、クロム、コバルト、ニッケルを主成分とする鉄基摺動面材料の粉末をレーザ溶射または減圧プラズマ溶射にレーザ照射を併用したレーザ・プラズマハイブリッド溶射により被着し、母材との界面に母材と溶射層との合金層を形成すると共に、溶射層の合金組成を制御することを特徴とする高性能摺動面の製造方法。

IPC (10)：

C10M169/04 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/12 ,  C23C 4/08 ,  C10M103:04 ,  C10M125:04 ,  C10N 10:12 ,  C10N 10:16 ,  C10N 30:06 ,  C10N 50:08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-020393
  
• 特開平3-275798