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J-GLOBAL ID:200903058941468687
気体流れからの低濃度被酸化性有機汚染物の除去ならびに破壊の方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
押田 良久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993314104
Publication number (International publication number):1994226040
Application date: Nov. 19, 1993
Publication date: Aug. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 先行技術の酸化工程中、吸着/酸化域に凝縮する水と、吸着ずみ汚染物の多数の炭素ならびに水素原子が含まれることが重大な問題となる。これらの問題の克服とその適応性の拡大と効率の増大。【構成】 気体流れからの低濃度被酸化性有機汚染物の除去ならびに破壊の方法で、汚染物を吸着剤に吸着させた後、汚染物を無害の生成物に現場接触酸化させることを特徴とする。本方法の基本特性は汚染物の脱着/酸化を通して水の除去と酸素強化を提供する。
Claim (excerpt):
気体流れからの低濃度被酸化性有機汚染物の除去ならびに破壊の方法で:(a) 前記気体流れを、汚染物の滞留に選択性を有し、かつ酸化触媒と直接接触する吸着剤を充満させた吸着/酸化域を通過させ、それを前記吸着/酸化域からの汚染物が漏出するまで、あるいは少量になるまで継続して、汚染を除去した気体の流れを生成させる工程と;(b) 再循環流れを前記吸着/酸化域の空隙から抜取る工程と;(c) 酸素を前記再循環流れに付加する工程と;(d) 前記高酸素再循環流れを冷却して前記高酸素循環流れに含まれた水の少くとも適当な部分を凝縮させる工程と;(e) 前記冷却し、かつ少くとも部分脱水された高酸素再循環流れを加熱する工程と;(f) 前記加熱し、少くとも部分的に脱水された高酸素再循環流れを前記吸着/酸化域に復帰させ、汚染物の一部を脱着、その後酸化させて二酸化炭素と水からなる酸化汚染物を生成させる工程と;(g) 前記工程(b) 乃至(f) を吸着/酸化域の汚染物の濃度が所望のレベルに低下するまで反復する工程と;からなる方法。
IPC (6):
B01D 53/34 120
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/36 ZAB
, B01J 20/10 ZAB
, B01J 20/20 ZAB
, B01J 23/56 ZAB
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