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J-GLOBAL ID：200903058944840960

スパツタリング装置

Inventor： 猪又 修
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991242943
Publication number (International publication number)：1993078829
Application date： Sep. 24, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】スパッタリング装置のふたを閉じたまま、ターゲット表面のゴミを除去する。【構成】真空チャンバー(5)と、真空チャンバー(5)内に設置された基板(S)と、これに対向するターゲット(T)からなるスパッタリング装置の真空チャンバー(5)内に、ターゲット(T)表面のゴミを除去するためのノズル(6)を設置し、1回のスパッタが終了したごとにチャンバーのふたを開けずに、ノズル(6)から吹き出される燥乾ガスによりターゲット(T)表面のゴミの除去をする。

Claim (excerpt)：

真空チャンバーと、真空チャンバー内に配置された基板ホルダーと、基板ホルダーと対向するターゲット及びスパッタリング用ガス導入口からなるスパッタリング装置において、乾燥ガスをターゲットに向けて噴射するゴミ除去装置を設けたことを特徴とするスパッタリング装置。