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J-GLOBAL ID：200903058948491323

シリコン材料の湿式化学処理のための方法および装置

Inventor： ハインツ・ヘルツァー ,  ハラルド・ヴォイト
Applicant, Patent owner： ワッカー・ケミトロニク・ゲゼルシャフト・フュア・エレクトロニク・グルントシュトッフェ・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994177715
Publication number (International publication number)：1995187900
Application date： Jul. 07, 1994
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】 フッ化水素および他の反応性作用物質を含むエッチングまたは精製作用を備えた処理剤を用いてシリコン材料を湿式化学処理するための方法およびその方法を実施するための装置を提供する。【構成】 相互に接して配置され、相互に接続された処理段階の配列を通る経路に沿ってシリコン材料が移動し、各処理段階において処理剤に接触する。シリコン材料の移動時に一つの状態にとどまり、その間は反応性作用物質の濃度曲線が移動路に沿って連続的な推移を示す。この状態は、反応性作用物質の調整配分によって維持される。

Claim (excerpt)：

フッ化水素および他の反応性作用物質を含むエッチングまたは精製作用を有する処理剤を用いて、シリコン材料を湿式化学処理するための方法において:a)接触して配置された互いに接続された処理段階の配列を通る経路に沿ってシリコン材料が移動し、各処理段階で処理剤に接触し;b)各処理段階の処理剤が、一定濃度の反応性作用物質を含み、各反応性作用物質が移動路に沿って一定の濃度曲線を生じるような組成を備え;c)シリコン材料の移動の間のある時点でとどまり、その間に作用物質の濃度曲線が連続した推移を示し;d)処理剤に対する反応性作用物質の調整配分によって静止状態を維持し、その間に反応性作用物質の濃度曲線を時間的に一定に維持し;e)処理段階の連鎖から反応性作用物質が減少した処理剤を取り出す;ことを特徴とするシリコン材料を湿式化学処理するための方法。

IPC (3)：

C30B 33/10 ,  C30B 29/06 ,  H01L 21/306