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J-GLOBAL ID：200903058956632807

抗菌性低刺激化粧料

Inventor：
森 秀司

About 森 秀司

, 
今堀 篤子

About 今堀 篤子


Applicant, Patent owner：
株式会社ノエビア

About 株式会社ノエビア


Agent (1)： 小川 篤子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996355132
Publication number (International publication number)：1998182333
Application date： Dec. 20, 1996
Publication date： Jul. 07, 1998
Summary：
【要約】【目的】 優れた抗菌作用を有し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 メリッサ(Melissa officinalis)抽出物と、パラオキシ安息香酸エステル類,フェノキシエタノール,感光素101号(プラトニン),感光素201号(ピオニン),感光素401号(ルミネキス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛より成る群から選択される1種又は2種以上を併用し含有させて成る。
Claim (excerpt)：
メリッサ(Melissa officinalis)の抽出物と、パラオキシ安息香酸エステル類,フェノキシエタノール,感光素101号(プラトニン),感光素201号(ピオニン),感光素401号(ルミネキス),ヒノキチオール,N-長鎖アシル塩基性アミノ酸誘導体及びその酸付加塩,酸化亜鉛よりなる群から選択される1種又は2種以上を含有することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (2)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/48
FI (5)：
A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/48
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 皮膚化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-062521   Applicant：丸善製薬株式会社
  • 美白化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-361633   Applicant：株式会社ノエビア
  • 皮膚外用剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-226492   Applicant：株式会社資生堂
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