Pat

J-GLOBAL ID：200903058956999140

植物栽培方法及びその装置

Inventor： 住吉 久 ,  渡部 一夫 ,  太田 隆 ,  峠 博之
Applicant, Patent owner： 株式会社ニチレイ ,  株式会社東洋製作所
Agent (1)： 前田 清美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995269201
Publication number (International publication number)：1997084470
Application date： Sep. 22, 1995
Publication date： Mar. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】植物栽培のための温度制御用の装置が小能力のもので事が足り、設備費及びランニングコストを低減せしめ、もって植物の栽培コストを低減せしめる。【解決手段】植物栽培用の鉢2を嵌入するための孔7を上板にあけた中空体よりなる支持台3を栽培室1内に設け、この支持台3内を空気調和機4等によって冷却または加温することにより、植物の根の部分だけをその植物の生長促進温度や花成誘導を惹き起こす温度等の所要の温度に制御する。

Claim (excerpt)：

植物の根の部分だけを所要の温度に冷却または加温することを特徴とする植物栽培方法。

IPC (2)：

A01G 9/20 ,  A01G 9/24

FI (2)：

A01G 9/20 A ,  A01G 9/24 V

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 植物の栽培装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-086507   Applicant：西村工業株式会社