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J-GLOBAL ID：200903058958931178

垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置

Inventor： 本多 幸雄 ,  平山 義幸 ,  伊藤 研也 ,  二本 正昭
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998049505
Publication number (International publication number)：1999250435
Application date： Mar. 02, 1998
Publication date： Sep. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】 不規則磁区を低減し、優れた低ノイズ特性と記録磁化の安定性を有する超高密度磁気記録に好適な垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置を提供する。【解決手段】 垂直磁化膜の垂直磁気異方性や結晶配向を制御することによって、磁気異方性の大きな結晶粒からなる磁性膜を形成し、磁性結晶粒の磁化容易軸を基板面に垂直方向に高配向させると共に特に磁気異方性の分散を小さくし、磁気記録したとき媒体表面に形成される不規則構造の磁区の低減、もしくは磁区構造の微細化を図り、垂直磁気記録状態もしくは膜面にほぼ垂直方向に一方向に磁化された残留磁化状態において不規則磁区の平均の面積を7.1×10-4μm2以下とする。

Claim (excerpt)：

基板上に形成した磁性薄膜の磁化容易軸が基板面に略垂直方向に配向した垂直磁気記録媒体において、垂直磁気記録状態もしくは膜面にほぼ垂直方向に一方向に磁化された残留磁化状態において不規則磁区の平均の面積が7.1×10-4μm2以下であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。