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J-GLOBAL ID：200903058959045775

電子ベース・リソグラフィのための高感度レジスト組成物

Inventor： ファン、ウー、ソン ,  リー、ウェンジ ,  モルー、ウェイン ,  メデイロス、デビッド、イー ,  ペトリロ、カレン、イー ,  ラング、ロバート、エヌ ,  アンゲロプロス、マリー
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
Agent (3)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004558994
Publication number (International publication number)：2006512600
Application date： Dec. 05, 2002
Publication date： Apr. 13, 2006
Summary：

【課題】 本発明のレジスト組成物は、酸感応性像形成ポリマーと、放射線感応性酸発生剤成分とを有するレジスト組成物を提供する。【解決方法】 本レジスト組成物は、(i)溶解抑制酸発生剤からなる群から選択された第1の放射線感応性酸発生剤と、(ii)未保護酸性基-官能基化酸発生剤と、酸不安定基保護酸性基-官能基化放射線感応性酸発生剤とからなる群から選択された第2の放射線感応性酸発生剤と、を含み、EPL、EUV、軟X線、その他の低エネルギー強度リソグラフィ像形成用途に用いるのに適した高感応性レジストの形成を可能にする。レジスト組成物は、他のリソグラフィ法にも有用である。

Claim (excerpt)：

(a)像形成ポリマーと、 (b)放射線感応性酸発生剤成分と、 を含み、前記放射線感応性酸発生剤成分が、 (i)溶解抑制酸発生剤からなる群から選択された第1の放射線感応性酸発生剤と、 (ii)未保護酸性基-官能基化放射線感応性酸発生剤と、酸不安定基保護酸性基-官能基化放射線感応性酸発生剤とからなる群から選択された第2の放射線感応性酸発生剤と、 を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/11 503 ,  H01L21/30 502R

F-Term (17)：

2H025AA01 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025DA35 ,  2H025DA40 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (18)

• 米国特許第6,043,003号
  
• 米国特許第5,374,504号
  
• 米国特許第5,191,124号
  
• 米国特許第4,855,017号
  
• 米国特許第5,362,663号
  
• 米国特許第5,429,710号
  
• 米国特許第5,562,801号
  
• 米国特許第5,618,751号
  
• 米国特許第5,744,376号
  
• 米国特許第5,801,094号
  
• 米国特許第5,821,469号
  
• 米国特許第6,037,097号
  
• 米国特許第5,948,570号
  
• 米国特許第4,554,458号
  
• 米国特許第5,866,913号
  
• 米国特許第6,069,684号
  
• 米国特許第6,296,976号
  
• 米国特許第6,355,383号
  

Cited by examiner (8)

• 新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-307362   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-074629   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-307363   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-314061   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-218703   Applicant：日本電信電話株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-277966   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感光性組成物用重合体およびこれをもちいたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-182641   Applicant：株式会社東芝
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-052637   Applicant：日本合成ゴム株式会社