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J-GLOBAL ID：200903058968596202

電極処理方法及び電場処理装置

Inventor： 伊東 昭典
Applicant, Patent owner： エル・エフ・ラボラトリー株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000056061
Publication number (International publication number)：2001241824
Application date： Feb. 28, 2000
Publication date： Sep. 07, 2001
Summary：

【要約】弱い電圧で迅速に電場処理できる方法及び装置を提供する。【課題】 電場を印加する雰囲気の温度を平均温度線(l0、l5)の上下に揺らしながら、中空室を有する電極1,30,51を使用して電場処理する。

Claim (excerpt)：

電場を印加する雰囲気の温度を平均温度線の上下に揺らしながら、被処理物を解凍したり冷凍したり鮮度保持することを特徴とする電場処理方法。

IPC (6)：

F25D 11/00 101 ,  A23L 3/32 ,  A23L 3/36 ,  A23L 3/365 ,  A47J 37/12 ,  F25D 11/02

FI (6)：

F25D 11/00 101 Z ,  A23L 3/32 ,  A23L 3/36 Z ,  A23L 3/365 Z ,  A47J 37/12 ,  F25D 11/02 L

F-Term (19)：

3L045AA02 ,  3L045BA03 ,  3L045BA05 ,  3L045CA03 ,  3L045CA06 ,  3L045DA02 ,  3L045EA01 ,  4B021LP10 ,  4B021LT03 ,  4B022LN10 ,  4B022LQ08 ,  4B022LT06 ,  4B022LT07 ,  4B059AA01 ,  4B059BB01 ,  4B059BG10 ,  4B059CA01 ,  4B059CA12 ,  4B059DA09