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J-GLOBAL ID：200903059021719870

パターン化された透明導電膜およびその製造方法

Inventor： 石川 真章 ,  吉川 逸治
Applicant, Patent owner： 住友大阪セメント株式会社
Agent (1)： 土橋 皓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998081668
Publication number (International publication number)：1999278869
Application date： Mar. 27, 1998
Publication date： Oct. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 優れた透明性と高い導電性を有するパターン化された透明導電膜および酸エッチングを行わず、安全で、工程数が少なく、微細なパターンを形成できるパターン化された透明導電膜の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 Inと、Snと、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上の元素とを含有するパターン化された透明導電膜と、インジウム化合物と、錫化合物と、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上を含む化合物と、感光性樹脂とを含有する塗布液を用いて形成したパターン化された透明導電膜の製造方法を構成する。

Claim (excerpt)：

Inと、Snと、W,Cr,Moのうち少なくとも1種以上の元素とを含有することを特徴とするパターン化された透明導電膜。

IPC (6)：

C03C 17/27 ,  B05D 1/32 ,  B32B 27/18 ,  C01G 15/00 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503

FI (6)：

C03C 17/27 ,  B05D 1/32 Z ,  B32B 27/18 J ,  C01G 15/00 B ,  H01B 5/14 B ,  H01B 13/00 503 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-198602
  
• 透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜の形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-255783   Applicant：大日本印刷株式会社
• 特開昭59-198602