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J-GLOBAL ID：200903059036699442

新規なシリコーン粉体処理剤及びそれを用いて表面処理された粉体、並びにこの粉体を含有する化粧料

Inventor： 中西 鉄雄 ,  作田 晃司 ,  小野 猪智郎
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 滝田 清暉 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000185999
Publication number (International publication number)：2001072891
Application date： Jun. 21, 2000
Publication date： Mar. 21, 2001
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】一般の化粧料に使用される油剤との親和性が良く、粉体に優れた乳化能力を与える新規な粉体処理剤、該処理剤によって表面処理された粉体、該粉体を配合してなる化粧料の提供。【解決手段】下記式1で表されるシリコーン粉体処理剤。R1aR2bR3cSiO(4-a-b-c)/2 1-CdH2d-O-(C2H4O)e(C3H6O)fR4 21式中R1はC1〜30のアルキル、アリール、アラルキル又はフッ素置換アルキル基、式2で表せる基(式2中R4はアルキル基等)R2はH、ヒドロキシ基、C1〜6のアルコキシ基等、R3は式3で表せる基、a〜f、x、yは、1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5、0≦d≦15、0≦e≦50、0≦f≦50、1≦x≦5、0≦y≦500。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表されるシリコーン粉体処理剤; R1aR2bR3cSiO(4-a-b-c)/2 (1)但し、(1)式中のR1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基又はフッ素置換アルキル基あるいは下記一般式(2) -CdH2d-O-(C2H4O)e(C3H6O)fR4 (2)で表される有機基から選択される同種又は異種の有機基であって、R4は炭素数4〜30の炭化水素基又はR5-(CO)-で表される有機基、R5は炭素数1〜30の炭化水素基である。R2は水素原子あるいはヒドロキシ基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基から選択される反応性置換基であり、炭素、酸素あるいは珪素原子を介して結合していても良い置換基である。R3は下記一般式(3)で表されるシリコーン化合物残基であり、a、b、cはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5である。また、d、e、fはそれぞれ0≦d≦15、0≦e≦50、0≦f≦50の整数である。xは1≦x≦5の整数であり、yは0≦y≦500の整数である。

IPC (14)：

C09C 3/12 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/32 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  C01B 33/42 ,  C01G 9/02 ,  C01G 23/04 ,  C09C 1/00 ,  C09C 1/04 ,  C09C 1/36 ,  C09C 1/40

FI (21)：

C09C 3/12 ,  A61K 7/00 A ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 Q ,  A61K 7/00 R ,  A61K 7/00 L ,  A61K 7/00 S ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/32 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  C01B 33/42 ,  C01G 9/02 Z ,  C01G 23/04 Z ,  C09C 1/00 ,  C09C 1/04 ,  C09C 1/36 ,  C09C 1/40