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J-GLOBAL ID：200903059043976389
ガス吸収方法および装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991201050
Publication number (International publication number)：1993023530
Application date： Jul. 17, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：
【要約】【目的】 吸収剤による排ガス中の有害ガスの吸収反応を総合的に且つ安定的に持続させ、吸収効率の低下を防止する。【構成】 焼却炉1から排出される排ガスは、冷却等によって冷却されてから前段吸収反応部3に入る。前段反応部3には、吸収剤サイロ5内の吸収剤が定量供給装置6により切り出されながら供給部4から供給される。前段吸収反応部3内では、排ガス中の有害ガスと吸収剤がある程度反応する。バグフイルタ8の濾布9により吸収反応した排ガスが除塵処理される。濾布9の表面の粉体層では未反応の吸収剤と有害ガスとが吸収反応する。濾布9には差圧センサー14および粉体払い落とし装置15が設けられている。差圧センサー14の検出値が設定値に一致した時に吸収剤の供給量を増加させる指令信号が装置Bから定量供給装置6に送られる。増加量や供給時間は装置Cにより設定される。
Claim (excerpt)：
吸収剤を供給して排ガス中の有害ガスと吸収反応せしめ、その後、該排ガスをバグフィルタの濾布により除塵処理するとともに、該濾布表面の粉体層で未反応の吸収剤と有害ガスとを吸収反応せしめるガス吸収方法において、上記濾布の差圧を検出し、その検出値に基づいて吸収剤の供給量を増加させことを特徴とするガス吸収方法。
IPC (6)：
B01D 53/34
, B01D 46/02
, B01D 46/04
, B01D 46/42
, B01D 53/34 124
, B01D 53/34 134
