Pat
J-GLOBAL ID:200903059064285599

パターン形成体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000084714
Publication number (International publication number):2001270024
Application date: Mar. 22, 2000
Publication date: Oct. 02, 2001
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、エネルギーの照射による濡れ性の異なる部位からなるパターンを効率よく形成したパターン形成体を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、基板と、この基板上に設けられ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であり、かつ少なくとも光触媒、エネルギー照射された際の上記液体との接触角の低下速度を向上させる第2の成分としての金属元素、およびバインダを含有する光触媒含有層とを有し、上記光触媒含有層表面に濡れ性の異なる部位からなるパターンを有していることを特徴とするパターン形成体を提供することにより上記課題を解決する。
Claim (excerpt):
基板と、この基板上に設けられ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であり、かつ少なくとも光触媒、エネルギー照射された際の前記液体との接触角の低下速度を向上させる第2の成分としての金属元素、およびバインダを含有する光触媒含有層とを有し、前記光触媒含有層表面に濡れ性の異なる部位からなるパターンを有していることを特徴とするパターン形成体。
IPC (7):
B32B 9/00 ,  B01J 23/745 ,  B01J 35/02 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 521
FI (7):
B32B 9/00 A ,  B01J 35/02 J ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/075 521 ,  B01J 23/74 301 M
F-Term (63):
2H025AA01 ,  2H025AB03 ,  2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  4F100AA05B ,  4F100AA21B ,  4F100AG00A ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JL08B ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC25A ,  4G069BC31A ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC35A ,  4G069BC54A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC67A ,  4G069BC68A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC73A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069BE02A ,  4G069BE05A ,  4G069BE14A ,  4G069CB25 ,  4G069CB35 ,  4G069DA05 ,  4G069EA07 ,  4G069ED01 ,  4G069ED02 ,  4G069FA01 ,  4G069FC05 ,  4G069FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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