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J-GLOBAL ID：200903059096884214

薄膜形成材、及び薄膜の形成方法

Inventor： 宮澤 良和 ,  青木 智則
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社 ,  株式会社オプトロン
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997298807
Publication number (International publication number)：1998193489
Application date： Oct. 30, 1997
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基材上に、簡易に且つ高品質の薄膜を得ることを目的とする。【解決手段】 常温硬化性物質からなる多孔質材に、有機シリコーンやパーフルオロアルキル基を持つ有機物の撥水性物質を含浸させ、それを真空中で蒸発させることによって、防汚・防水性を必要とする基材上に撥水薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

常温硬化性物質からなる多孔質材に、薄膜形成物質を保持させた薄膜形成材。

IPC (6)：

B32B 5/18 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/30 ,  C23C 14/08 ,  G02B 1/10 ,  G09F 9/30 312

FI (6)：

B32B 5/18 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/30 D ,  C23C 14/08 N ,  G09F 9/30 312 Z ,  G02B 1/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭61-053181