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J-GLOBAL ID：200903059099618620

照明装置及びそれを用いた投影露光装置

Inventor： 村木 真人 ,  高橋 和弘
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991225224
Publication number (International publication number)：1993047640
Application date： Aug. 09, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【構成】 楕円鏡2の第1焦点近傍に発光部1aを配置し、該楕円鏡の第2焦点近傍に発光部像を形成し、該発光部像を射出側テレセントリックな結像系4によりオプティカルインテグレータ5の入射面5aに結像させ、該オプティカルインテグレータの射出面5bからの光束を集光レンズ9で集光して被照射面を照明する際、該オプティカルインテグレータの入射面と該結像系を介した共役面との相対的位置関係を変位させて該オプティカルインテグレータの入射面の光強度分布を変更したこと。

Claim (excerpt)：

楕円鏡の第1焦点近傍に発光部を配置し、該発光部からの光束を該楕円鏡を介して該楕円鏡の第2焦点近傍に集光し、発光部像を形成し、該発光部像を結像系により複数の微小レンズを2次元的に配列したオプティカルインテグレータの入射面に結像させ、該オプティカルインテグレータの射出面からの光束を集光レンズで集光して被照射面を照明する際、該オプティカルインテグレータの入射面と該結像系を介した共役面との相対的位置関係を変位させて該オプティカルインテグレータの入射面の光強度分布を変更したことを特徴とする照明装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L