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J-GLOBAL ID：200903059106860548

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999148341
Publication number (International publication number)：2000338675
Application date： May. 27, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】【解決手段】(a)下記一般式(I)で示される基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記一般式(I)中、R1及びR2は水素原子又はアルキル基を、Xはアルキレン基を、Zは直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ環をそれぞれ表す。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)で示される基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記一般式(I)中:R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Xは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキレン基を表す。Zは、置換されていてもよい炭素数7以上の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、置換されていてもよい炭素数11以上のアリール基、置換されていてもよい炭素数11以上のアラルキル基を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (9)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52