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J-GLOBAL ID：200903059123041577

レ-ザアニ-リング装置

Inventor： 柴田 肇 ,  牧田 雄之助 ,  山田 家和勝 ,  内田 裕 ,  佐藤 三郎
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  株式会社東芝
Agent (2)： 工業技術院電子技術総合研究所長 (外1名) ,  鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992176738
Publication number (International publication number)：1994017120
Application date： Jul. 03, 1992
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】この発明は、ワ-クをレ-ザ光によってアニ-リングする際、そのレ-ザ光の強度をアニ-リング条件に応じて精度よく制御できるレ-ザアニ-リング装置を提供することにある。【構成】レ-ザ発振器1と、このレ-ザ発振器から出力されたレ-ザ光によってアニ-リング処理されるワ-ク5が設置されたチャンバ3と、このチャンバに上記レ-ザ発振器から出力されたレ-ザ光を導く導光路2と、この導光路に上記レ-ザ光に対して所定の吸収率を有する気体を供給する制御用ガスボンベ9と、上記導光路における上記気体の濃度を検出する検出センサ13と、この検出センサからの検出信号によって上記供給手段を制御し上記導光路における上記気体の濃度を設定するコントロ-ラ12とを具備したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

レ-ザ発振器と、このレ-ザ発振器から出力されたレ-ザ光によってアニ-リング処理されるワ-クが設置されたチャンバと、このチャンバに上記レ-ザ発振器から出力されたレ-ザ光を導く導光路と、この導光路に上記レ-ザ光に対して所定の吸収率を有する気体を供給する供給手段と、上記導光路における上記気体の濃度を検出する検出センサと、この検出センサからの検出信号によって上記供給手段を制御し上記導光路における上記気体の濃度を設定する制御手段とを具備したことを特徴とするレ-ザアニ-リング装置。

IPC (4)：

C21D 1/34 ,  B23K 26/00 ,  H01L 21/268 ,  H01S 3/00