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J-GLOBAL ID：200903059125549810
微細パターンの形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992044060
Publication number (International publication number)：1993241175
Application date： Feb. 28, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：
【要約】【構成】 所望のパターンに相応するパターン状の凹部を設けるとともにその表面に離型層2を形成した凹版1と、表面に剥離層4を形成した可撓性フィルム5とを、両者間に硬化性インキ3を介在させた状態で対峙させ、凹版1と可撓性フィルム5をその両側から加圧して、硬化性インキ3を挟持した状態で硬化させた後、可撓性フィルム5を剥離して凹版1の凹部に硬化したインキパターンを得、次に硬化したインキパターンを、表面に粘着層11を有する被転写体7に転写する。【効果】 凹版の凹部の形状に忠実な微細インキパターンを、正確かつ鮮明に被転写体表面に転写することができる。特に、直接フォトリソグラフィによってパターンを形成することが困難である大型のディスプレイパネル基板上に、容易にパターン形成することができる。また転写後、引き剥した凹版は反復使用することができるので、作業効率が高く、低コスト化が可能である。
Claim (excerpt)：
所望のパターンに相応するパターン状の凹部を設けるとともにその表面に離型層を形成した凹版と、表面に剥離層を形成した可撓性フィルムとを、両者間に硬化性インキを介在させた状態で対峙させ、凹版と可撓性フィルムをその両側から加圧して硬化性インキを挟持した状態で硬化させた後、可撓性フィルムを剥離して凹版の凹部に硬化したインキパターンを得、次にこの硬化したインキパターンを表面に粘着層を有する被転写体に転写することを特徴とする微細パターンの形成方法。
IPC (4)：
G02F 1/1343
, B41M 1/10
, C09D 11/10 PTS
, G03C 1/805
