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J-GLOBAL ID:200903059181720948
嵩高い立体保護基を有する新規リン化合物、新規ケイ素-リン二重結合含有化合物およびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008143661
Publication number (International publication number):2009286760
Application date: May. 30, 2008
Publication date: Dec. 10, 2009
Summary:
【課題】新規リン化合物、並びにπ-π*遷移を実現可能なケイ素-リン二重結合含有化合物の提供。【解決手段】例えば、下式により合成されるリン化合物、並びに下式(II)で表される有化合物。(Ar1はアリール基、A21、A22はリン化合物の有機残基を表す。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(I)で表されるリン化合物。
IPC (3):
C07F 9/50
, C07F 9/52
, C07F 19/00
FI (3):
C07F9/50
, C07F9/52
, C07F19/00
F-Term (17):
4H048AA01
, 4H048AB84
, 4H048VA50
, 4H048VB10
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VP02
, 4H049VQ08
, 4H049VR22
, 4H049VS13
, 4H049VU36
, 4H050AA01
, 4H050AA02
, 4H050AB84
, 4H050WA15
, 4H050WA19
, 4H050WA29
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