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J-GLOBAL ID：200903059215819329
走査型露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997027812
Publication number (International publication number)：1998223513
Application date： Feb. 12, 1997
Publication date： Aug. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 パルス光を用いて比較的高感度の感光材料に露光する場合でも、ステージの走査速度をできるだけ低くすることなく適正な露光量を得る。【解決手段】 パルス光を減光するためのNDフィルタの透過率を最大値にリセットして、ステージを最大速度に設定したときに得られる最小露光ドーズ量S<SB>D-</SB><SB>min </SB>を求めた後(ステップ103)、フォトレジストに対する最適露光ドーズ量S<SB>D </SB>がS<SB>D-min </SB>以上であるときには、最適露光ドーズ量S<SB>D </SB>に合わせてステージの走査速度V<SB>scan</SB>を変更し(ステップ108)、S<SB>D </SB><S<SB>D-min </SB>であるときには、露光パルス数が最小積算パルス数以上となる範囲で、最適露光ドーズ量S<SB>D </SB>に合わせてパルス光源の発振周波数f<SB>laser </SB>を制御する(ステップ105,107)。
Claim (excerpt)：
パルス光を出力する露光光源と、転写用パターンの形成されたマスクを移動するマスクステージと、感光基板を移動する基板ステージと、を有し、前記露光光源から供給されるパルス光に対して前記マスクステージ及び前記基板ステージを介して前記マスク及び前記感光基板を同期走査することによって、前記マスクのパターンを逐次前記感光基板上に転写する走査型露光装置において、前記露光光源における前記パルス光の発振周波数を所定範囲内で調整するパルス周波数制御系と、前記感光基板に対する前記パルス光の露光量の制御を行う露光量制御系と、を備え、前記パルス光のパルスエネルギのばらつきの影響を抑えて所定の露光量均一性を得るために最低限積算が必要なパルス数によって定まる最小露光量に対して、前記マスクステージ及び前記基板ステージの最大走査速度に応じて定まる露光量の下限値を大きく設定しておき、前記露光量制御系は、前記感光基板に対する適正露光量が前記最小露光量と前記露光量の下限値との間にあるときに、前記パルス周波数制御系を介して前記パルス光の発振周波数を制御することによって前記感光基板に対する露光量の制御を行うことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 D
