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J-GLOBAL ID：200903059232091436

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
北條 卓馬

About 北條 卓馬

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羽田 英夫

About 羽田 英夫

, 
塩野 大寿

About 塩野 大寿


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004291485
Publication number (International publication number)：2006106265
Application date： Oct. 04, 2004
Publication date： Apr. 20, 2006
Summary：
【課題】 高い感度でレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性の構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含み、構成単位(a2)が式(II)[R1はアルキル基、R2はアルキル基または水素原子、Xは脂肪族環式基、芳香族環式炭化水素基またはアルキル基を表す。R1のアルキル基の末端とXのアルキル基の末端とが結合して環式基を形成していてもよい。]で表される酸解離性溶解抑制基(II)を有し、酸発生剤成分(B)が式(B-1)[R10はアルキル基またはシクロアルキル基を表す。]で表されるスルホン酸イオンをアニオンとするオニウム塩系酸発生剤(B-1)を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性の構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記構成単位(a2)が、下記一般式(II)
IPC (3)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
F-Term (14)：
2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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