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J-GLOBAL ID:200903059261156245

拡大された被写界深度を有する光学システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 仁朗
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996523771
Publication number (International publication number):1999500235
Application date: Feb. 05, 1996
Publication date: Jan. 06, 1999
Summary:
【要約】非干渉性光学システムの被写界深度を増大させるとともに、波長に対する感受度及び焦点ぼけを生ずるレンズの諸収差を減少させるためのシステムは、専用の光マスクを非干渉性システムへ導入する。光マスクは、光伝達関数を焦点位置から或るレンジ内で実質的に一定に留めるように設計されている。結果的な中間イメージの信号処理は、マスクの光伝達修正効果を取り消して、増大された被写界深度にわたって合焦イメージを与える。一般に、マスクは、主面に配置されるか、又は光学システムの主面のイメージの位置に配置される。マスクは、光の位相だけを修正し、光の振幅を修正しないことが好ましい。マスクは、受動レンジ・システムの有効レンジを増大させるために用いることができる。
Claim (excerpt):
一の光伝達関数を有し、一の物体から受け取られる光を一のイメージ面に合焦させるための一のレンズ及び前記イメージ面における光イメージを記録するための記録手段を有する非干渉性光学システムの被写界深度を増大させるための装置であって、 前記物体と前記記録手段との間に設けられ、前記光伝達関数が前記物体と前記レンズとの間の距離に対し或るレンジの物体距離にわたって実質的に不感となるように前記光伝達関数を変更するべく構成及び配置された一の光マスクと、 前記記録手段に接続され、前記光マスクによって行われた前記光伝達関数の変更を反転することによって前記記録された光イメージを復元するための被写界深度ポスト処理手段とを備えて成る、前記装置。
IPC (3):
G02B 27/46 ,  G02B 13/00 ,  G03B 11/00
FI (3):
G02B 27/46 ,  G02B 13/00 ,  G03B 11/00

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