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J-GLOBAL ID：200903059267576173

ウェハ洗浄装置

Inventor： 小林 正典 ,  山崎 健 ,  早見 由香 ,  市橋 精二
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992240777
Publication number (International publication number)：1994089889
Application date： Sep. 09, 1992
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明はウェハ洗浄装置に関し、洗浄効果の向上を実現することを目的とする。【構成】 洗浄水スプレーノズルユニット23,24を、キャリア11を掛止して搬送するハンガ21,22の垂直腕21b,22bに取り付けて構成する。ノズルユニット23,24は、キャリア11内のウェハ10に接近して位置する。洗浄水スプレー25,26のウェハ10の主面10a上の水圧は高いように構成する。

Claim (excerpt)：

洗浄水のスプレー(25,26)を噴射するノズル(23b,24b)が複数並んだ洗浄水スプレーノズルユニット(23,24)を、ウェハ(10)を収容したキャリア(11)を掛止して搬送するハンガ(21,22,40)に取り付けた構成としたことを特徴とするウェハ洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02