レーザ加工における同軸観測装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：生田哲郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994282839
Publication number (International publication number)：1996118055
Application date： Oct. 21, 1994
Publication date： May. 14, 1996
Summary：

【要約】【目的】非可視光のレーザ加工装置に設けられレーザ光の照射位置を観測する装置において、従来のような観測に伴うロスタイムや機械動作に伴う誤差のない観測装置を提供することを目的とする。【構成】可視レーザ発振器17からの可視レーザ光13を、ビームコンバイラー25を介して、加工用の非可視レーザ光19の光路軸と同軸上に、加工対象物11へ送る。また、加工用レンズ9付近に設けられたライト27が加工対象物11を照らす。そして、可視レーザ光の照射位置からの反射光およびライトに照らされた加工対象物からの反射光を、前記ビームコンバイラー25を介して、CCDカメラ29に取り込む。取り込んだ画像はモニタ35に写すとともに、パソコン37で画像処理技術により処理し、目標照射位置とのズレを演算する。このズレ補正信号をもとに、NC制御装置39を介して加工対象物を載置するXYテーブル13を制御し、前記ズレを補正する。

Claim (excerpt)：

レーザ発振器からの非可視レーザ光を加工対象物へ導き加工を行うレーザ加工装置に設けられ、前記非可視レーザ光の加工対象物への照射位置を観測するレーザ加工における同軸観測装置であって、前記非可視レーザ光の光路軸と同軸上にして可視レーザ光を加工対象物へ送り、この可視レーザ光の反射光をCCDカメラへ取り込み、取り込んだ画像をモニタに写すことを特徴とするレーザ加工における同軸観測装置。

IPC (4)：

B23K 26/02 , B23K 26/00 , B23K 26/04 , B23K 26/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平3-238190
特開昭62-161491
特開昭55-077989

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