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J-GLOBAL ID：200903059313919811

光学素子の成形方法

Inventor： 真重 雅志 ,  中川 伸行 ,  野村 剛
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 大塚 康徳 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001009123
Publication number (International publication number)：2002220241
Application date： Jan. 17, 2001
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】光学素子の成形において、微細パターンの完全な転写と、良好な離型性を実現する。【解決手段】加熱軟化状態にあるガラス素材をプレスすることによって、表面に微細パターンを有する光学素子を成形するための光学素子の成形方法であって、微細パターンを成形するためのパターンが形成されていない第1の型2Aによってガラス素材をプレスし、ガラス素材を概略の光学素子形状に成形する第1の工程と、ガラス素材よりも高温に加熱した状態の微細パターンを成形するためのパターンが形成されている第2の型2Bによって略微細パターンのみを成形する第2の工程と、第2の型をガラス素材から離間させ、第2の型とガラス素材とが接触していない状態で、ガラス素材を冷却する第3の工程とを具備する。

Claim (excerpt)：

加熱軟化状態にあるガラス素材をプレスすることによって、表面に微細パターンを有する光学素子を成形するための光学素子の成形方法であって、前記微細パターンを成形するためのパターンが形成されていない第1の型によって前記ガラス素材をプレスし、該ガラス素材を概略の光学素子形状に成形する第1の工程と、前記ガラス素材よりも高温に加熱した状態の前記微細パターンを成形するためのパターンが形成されている第2の型によって略前記微細パターンのみを成形する第2の工程と、前記第2の型を前記ガラス素材から離間させ、前記第2の型と前記ガラス素材とが接触していない状態で、前記ガラス素材を冷却する第3の工程とを具備することを特徴とする光学素子の成形方法。

IPC (3)：

C03B 11/08 ,  C03B 11/12 ,  G02B 3/00

FI (3)：

C03B 11/08 ,  C03B 11/12 ,  G02B 3/00 Z