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J-GLOBAL ID：200903059350353526

リン系潜伏性触媒の合成法

Inventor： 本田 博美 ,  三宅 澄也 ,  杠 幸治
Applicant, Patent owner： 住友ベークライト株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995012488
Publication number (International publication number)：1996196911
Application date： Jan. 30, 1995
Publication date： Aug. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高収率で、エポキシ化合物等の硬化触媒として有用な潜伏性触媒、テトラ置換ホスホニウムテトラ有機酸ボレート(C)の合成法を提供する。【構成】 テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(TPP-K)、安息香酸をフラスコに仕込み、窒素雰囲気下、230°Cで4時間反応する。副生成物であるベンゼンを系外に除去し、反応終了後冷却、トルエンで洗浄乾燥し、白色結晶の潜伏性触媒、テトラフェニルホスホニウムテトラ安息香酸ボレートを得た。分析結果は下記構造(a)に相当する化合物と一致する。【化8】

Claim (excerpt)：

一般式(1)で示されるテトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレート(A)、【化1】(式中のR1、R2、R3及びR4は各々1価の芳香環を含む有機基または1価の脂肪族残基よりなる群より選ばれた置換基を表し、それぞれ同じであっても異なっていても良い。また、式中のR5、R6、R7及びR8は炭化水素基(アルキル基、フェニル基、置換フェニル基等)を表し、それぞれ同じであっても異なっていても良い。)と、一般式(2)で示される、分子外に放出しうるプロトンを少なくとも1個以上分子内に有するn(n≧1)価の有機酸(B)、【化2】とを熱反応させることにより生成する、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレート(A)のボロン側のすべての置換基R5、R6、R7及びR8が、有機酸(B)のプロトンが分子外に1個放出されてなる根による基に置換された一般式(3)で示される潜伏性触媒、テトラ置換ホスホニウムテトラ有機酸ボレート(C)【化3】(式中のR1、R2、R3及びR4は前記と同義である。)の合成法。

IPC (5)：

B01J 31/24 ,  C07F 5/02 ,  C07F 9/54 ,  C08G 59/40 NJL ,  C08G 59/68 NKL