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J-GLOBAL ID：200903059388181427
処理装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小林 哲男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991183656
Publication number (International publication number)：1993013345
Application date： Jun. 28, 1991
Publication date： Jan. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 この発明は液化ガスが流路内壁面に付着するのを防止したこと。【構成】 処理装置に用いる液化ガスの供給管、排気管などの流路内壁面を非付着臨界温度以上に設定することにより付着防止したこと。
Claim (excerpt)：
処理容器内に室温で液体である処理ガスを供給するガス供給装置と、このガス供給装置を前記処理ガスの非付着臨界温度以上に設定する加熱手段とを具備してなることを特徴とする処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/205
, H01L 21/223
Cited by examiner (6)
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