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J-GLOBAL ID：200903059391360723

ガス給排装置

Inventor： 矢野 眞 ,  清水 克敏 ,  白石 勝彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997093430
Publication number (International publication number)：1998285730
Application date： Apr. 11, 1997
Publication date： Oct. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は、SF6 ガス給排作業において、ガスの大気放出を低減することのできるガス給排装置を提供することにある。【解決手段】真空排気系にガス凝縮器を設置し、ガス絶縁機器1内部のガス圧力に応じてガス圧縮機8と真空ポンプ13を自動的に使い分けるとともに、それぞれの機器に対応して、液体,固体の分解ガスの除去機構6を接続している。又、ガス絶縁機器1の内部ガスが大気成分の場合には真空ポンプ13と直結できるバイパス手段を設けている。液化回収されたガスを収納するタンクは全装可搬型のガス回収装置から分離搬送できる構成とした。

Claim (excerpt)：

SF6 ガス絶縁機器と接続された該SF6 ガス絶縁機器で発生する分解ガスを中和あるいは吸着するための除去機構と、該除去機構に接続され前記SF6 ガス絶縁機器内のSF6 ガスを真空引きするための真空ポンプと第二の凝縮器から構成される第一の経路と、該第一の経路及び前記除去機構と並列に接続されSF6ガスを液化するためのガス圧縮機と前記第二の凝縮器より低い凝縮温度に設定された第一の凝縮器を具備した液化機構を構成する第二の経路と、前記液化機構により液化されたガスを蓄える貯蓄タンク機構と、該貯蓄タンク機構に蓄えた液化ガスを気化してガス絶縁機器に供給するための蒸発機構を備え、前記SF6 ガス絶縁機器内の圧力が大気圧以下の時に前記第一の経路を通過させるように構成したことを特徴とするガス給排装置。

IPC (3)：

H02B 13/055 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/68

FI (3)：

H02B 13/06 M ,  B01D 53/02 Z ,  B01D 53/34 134 C