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J-GLOBAL ID：200903059426017431
基板の洗浄方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 隆久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995068335
Publication number (International publication number)：1996264500
Application date： Mar. 27, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：
【要約】【目的】 基板表面に存在する微量の吸着有機物をも除去することができる基板の洗浄方法を提供すること。【構成】 酸性溶液、酸化性溶液あるいはアルカリ性溶液で基板の表面を洗浄する工程を含む基板の洗浄方法の最初の工程が、基板の表面に形成された自然酸化膜を除去する工程である。自然酸化膜を除去する工程が、フッ酸を含む溶液に前記基板を浸漬する工程、フッ酸を含む蒸気中に前記基板を曝す工程であることが好ましい。前記フッ酸を含む溶液としては、フッ酸水溶液、あるいはフッ酸とフッ化アンモニアとを含むバッファードフッ酸溶液などを用いることができる。前記フッ酸を含む蒸気としては、フッ酸水溶液の蒸気、またはフッ酸とフッ化アンモニアとを含むバッファードフッ酸の蒸気などを用いることができる。
Claim (excerpt)：
基板の表面を洗浄する方法において、酸性溶液、酸化性溶液あるいはアルカリ性溶液で前記基板の表面を洗浄する工程を含む基板の洗浄方法の最初の工程が、前記基板の表面に形成された自然酸化膜を除去する工程であることを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (3)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/08
H01L 21/304 341 M
, H01L 21/304 341 L
, B08B 3/08 A
