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J-GLOBAL ID：200903059437849323

浄水システム

Inventor： 半田 文隆 ,  仲平 四郎 ,  森田 穣 ,  桑原 勅光
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998140798
Publication number (International publication number)：1999319844
Application date： May. 22, 1998
Publication date： Nov. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】浄水処理における必要な機器の設置面積を小さくする。【解決手段】急速ろ過システムの中の沈澱池やろ過池の代わりに超電導磁気分離システムを用いる。

Claim (excerpt)：

浄水処理の急速ろ過浄水処理システムにおける沈澱プロセスを超電導磁気分離装置で行うことを特徴とする水処理システム。

IPC (3)：

C02F 1/48 ,  B03C 1/00 ,  C02F 1/52

FI (3)：

C02F 1/48 A ,  B03C 1/00 A ,  C02F 1/52 Z