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J-GLOBAL ID：200903059440288502

磁気記録媒体とその製造方法およびそれを用いた磁気デイスク装置

Inventor： 石川 晃 ,  城石 芳博 ,  菱山 定夫 ,  山本 朋生 ,  屋久 四男 ,  大野 徒之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991056810
Publication number (International publication number)：1993128481
Application date： Mar. 20, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】媒体面内の磁気特性が均一でモジュレーションが少なく、高密度記録が可能な磁気記録媒体とこのような媒体を再現性良く製造する方法およびこのような媒体を用いた小形で大容量の磁気ディスク装置を提供することにある。【構成】この媒体は、磁性層の下地層を第一、第二の二層構造となし、その第一の下地層16に酸素、フッ素、窒素の少なくとも一種の元素Zを0.1〜50at%含有させるか、もしくは水素を下地層と磁性層14の少なくとも一方に0.001〜5at%を含有させて構成される。これにより、磁性膜の結晶成膜初期段階において、結晶核を媒体面内で均一に再現性良く形成することができ、結晶性や配向性が媒体面内で均一化する。さらに第一の下地層16中のZ元素の含有量を上記範囲に設定することにより、保磁力や角形比等の磁気特性が向上し、高い限界記録密度やS/Nが得られる。

Claim (excerpt)：

非磁性基板上に少なくとも下地層、磁性層および保護層が順次積層されて成る薄膜磁気記録媒体であって、前記下地層は少なくとも第一の下地層上に、第二の下地層が積層された複数層構造を有すると共に、前記第一の下地層の少なくとも表層部には酸素、フッ素および窒素の元素群の中から選択される少なくとも一種の元素を原子パーセントで0.1〜50%含有せしめて成る磁気記録媒体。

IPC (2)：

G11B 5/66 ,  G11B 5/85

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭62-293511
  
• 特開平2-040126
  
• 特開昭62-293512
  
• 特開平3-029110