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J-GLOBAL ID：200903059450232238

旋回流式曝気装置

Inventor： 宇美 史郎 ,  中村 利幸 ,  谷口 智彦
Applicant, Patent owner： 月島機械株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000220956
Publication number (International publication number)：2002035785
Application date： Jul. 21, 2000
Publication date： Feb. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】 パネル型の散気装置4を旋回流式の曝気装置に安定的に配設可能として、確実かつ効率的な処理水Pの濃縮や浄化を図る。【解決手段】 処理水Pを保持する曝気槽1内に上下方向に延びるバッフル板2が配設されるとともに、このバッフル板2によって分けられる曝気槽1内の一方の側1Aには、曝気槽1内に空気を散出する散気装置4が配設されてなる旋回流式曝気装置において、この散気装置4を、複数の平板状の装置本体4A...の樹脂製の上面に形成された多数の散気孔から空気を散出するパネル型の散気装置4とし、曝気槽1の内壁1a,1cとバッフル板2の側面2aとのうち少なくとも一方に設けられた棚部3に、装置本体4A同士が互いに間隔をあけるように載置して支持する。

Claim (excerpt)：

処理水を保持する曝気槽内に上下方向に延びるバッフル板が配設されるとともに、このバッフル板によって分けられる上記曝気槽内の一方の側には、該曝気槽内に空気を散出する散気装置が配設されてなる旋回流式曝気装置において、上記散気装置は、複数の平板状の装置本体の樹脂製の上面に形成された多数の散気孔から空気を散出するパネル型の散気装置であって、上記曝気槽の内壁と上記バッフル板の側面とのうち少なくとも一方に設けられた棚部に、上記装置本体同士が互いに間隔をあけて載置されて支持されていることを特徴とする旋回流式曝気装置。

IPC (3)：

C02F 3/20 ZAB ,  C02F 3/20 ,  C02F 3/12

FI (3)：

C02F 3/20 ZAB C ,  C02F 3/20 D ,  C02F 3/12 A

F-Term (12)：

4D028AB00 ,  4D028BB03 ,  4D028BC12 ,  4D028BC13 ,  4D028BC24 ,  4D028BC26 ,  4D028CA09 ,  4D028CB01 ,  4D029AA01 ,  4D029AA09 ,  4D029AB05 ,  4D029AB07