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J-GLOBAL ID:200903059475099990
研磨用組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996325619
Publication number (International publication number):1998172937
Application date: Dec. 05, 1996
Publication date: Jun. 26, 1998
Summary:
【要約】【課題】 被研磨面を研磨する速度が大きく、リサイクル使用した場合、使用回数を重ねても被研磨面を研磨する速度の低下が小さく、加工プロセスを安定化することができる研磨用組成物の提供。【解決手段】 コロイダルシリカ、含窒素塩基性化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が30〜1500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。
Claim (excerpt):
コロイダルシリカ、含窒素塩基性化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が30〜1500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (6):
H01L 21/304 321
, B24B 37/00
, C01B 33/14
, C09K 3/14 550
, C09K 3/14
, G11B 5/84
FI (6):
H01L 21/304 321 P
, B24B 37/00 H
, C01B 33/14
, C09K 3/14 550 D
, C09K 3/14 550 Z
, G11B 5/84 A
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